英国牛津 离子束设备 - Optofab3000介绍
专为DWDM器件设计的Optofab3000系统，使DWDM镀膜成为一项简单的事情
Optofab3000：制作DWDM光滤波器的离子束溅射沉积系统
迅速增长的光通信业务流量对通信带宽和容量提出了越来越高的要求。光器件厂商需要生产能力大产量高的加工系统。离子束溅射沉积是生产高质量、高精度光学薄膜的最佳选择。Optofab3000系统是一个基于已成熟的Ionfab300plus系统之上的组合式的离子束系统，可以进行高质量的刻蚀和沉积加工。在高性能光学器件市场中，牛津仪器等离子体技术设备公司已经成为全球领先的离子束沉积系统生产商。典型的应用包括DWDM 滤波器、分插复用器、增益平坦滤波器和抗反射薄膜等。
Optofab3000更高的沉积速率
Optofab3000系统由于改进了离子光学/系统几何结构，同时具有高速率的离子源，因此具有较高的沉积速率。其离子源是15cm的射频源，具有三个碟形钼栅格的设计。这种新的设计具有栅格形状稳定、离子束形状可控制等特点，可以实现高速均匀沉积。该系统还配有长寿命的中和器，从而保证稳定的操作以及束流和靶的有效中和。
材料 450mA下的沉积速率 折射率
sio2 3.0A/secs 1.465
Ta2o5 >3.35 A/secs 2.065
Optofab3000更好的膜均匀性
DWDM滤波器对于膜层的均匀性和重复性要求很高。Optofab3000自身的膜层均匀性可以达到<±1%，使用均匀性掩膜可以将膜层的均匀性进一步提高到±0.1%以下。
Optofab3000层间均匀性
高速旋转的衬底托盘可以保证层间均匀性。我们独特的设计基于托盘的特点：它可以放置直径8"，
厚度6mm的衬底。
Optofab3000光学薄膜厚度控制
对于沉积系统来说，是否能够沉积高精度的多层膜变得越来越重要。为了确保每一层膜准确的光学厚度，以及滤波器具有所需的光学特性，使用光学监测器是必要的。系统利用光学厚度监测器来控制所需要的光谱特性，而不只是控制薄膜的厚度。在工艺过程中，监测器可以根据预设的滤波器的特性发出指令来改变相应的膜层。这样就实现了系统的智能过程控制，从而可以补偿工艺精度的偏差。
Optofab3000衬底操作
Optofab3000配置了单片衬底锁定进样装置，可以进行连续加工而不破坏真空。系统的大
部分设计都调整到允许长期处于真空状态，
从而进一步提高工艺过程的稳定性。
Optofab3000系统尺寸
Optofab3000采用组合式的系统设计。在需要安装多个系统的应用环境下，可以为用户节约很大的成本。该系统底座很小（小于3平方米），比同类型的系统更能节省超净间空间。而且由于其反应室较小，只需要使用型真空泵，因此可以降低运行成本。
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