英国牛津 等离子设备 - Plasmalab System100系列产品
Plasmalab System100是当今世界上半导体光电子行业的主流机型,预真空锁(Load Lock)的配置使我们客户的产品质量得到了很大的提高。
该设备同样为模块化设计,可以根据客户的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同时载片量也可以根据需求从一次处理单片2"直到一次处理7片2"。
Plasmalab System100系列 - PECVD(等离子增强型化学气相沉积)配置产品介绍
典型应用:
各种介质薄膜的沉积(SiO2,SiNx,SiOxNx)
厚膜SiO2,SiNx的沉积
各种掺杂类厚膜沉积(掺Ge,BSG,PSG,BPSG)
SiC薄膜的沉积
无定型Si薄膜的沉积
液态源(TEOS)厚膜沉积
System100系列 - PECVD(等离子增强型化学气相沉积)配置主要配置:
双频配置很好的解决了厚膜应力问题
205mm或240mm直径以及400摄氏度或700摄氏度的下电极配置,可以满足各种工艺需求
外部Gas Pod配置是设备日常维护变得非常轻松
发射光谱(Optical Emmision)EPD配置使真空腔的清洗变得非常简单
System100系列 - PECVD(等离子增强型化学气相沉积)配置选配件:
预真空锁(Load Lock)的干泵配置,维护简单
分子泵配置更彻底的解除了有毒气体对操作人员的威胁