离子束设备300Plus性能特点
英国牛津 离子束设备 - Ionfab 300Plus介绍
Ionfab 300Plus是模块化的离子束（Ion Beam）刻蚀和沉积系统，是用离子束的方法对样片进行刻蚀和溅射沉积，从而达到高准确度、高精度的客户要求。最大直径8英寸，厚度最高达8.5mm的多种类型样片可以被自动进片系统装入反应室，带积分中和的15cm离子源使产品的均匀性得到巨大的提高。
Ionfab300Plus被设计成一个模块化的离子束系统，用于离子束刻蚀和离子束镀膜。
它已经被广泛应用于各种类型的工艺研究和生产，特别在半导体行业和光学镀膜领域得到了广泛应用。
离子束设备 Plasmalab Ionfab300Plus 产品介绍
该设备可以被配置成：
国际教育局（惰性气体离子束蚀刻）
里伯（反应离子束蚀刻）
CAIBE （化学辅助离子束蚀刻）
IBSD （离子束溅射沉积
IASD （离子辅助溅射沉积）
RIBD （反应离子束沉积）
英文
IBE（Inert Gas Ion Beam Etch）
RIBE（Reactive Ion Beam Etch）
CAIBE（Chemically Assisted Ion Beam Etch）
IBSD（Ion Beam Sputter Deposition
·IASD（Ion Assisted Sputter Deposition）
RIBD（Reactive Ion Beam Deposition）
离子束设备 Plasmalab Ionfab300Plus 典型应用：
砷化镓光电
微波集成电路
的InP激光光学
红外线探测器
薄膜磁头
SAW （声表面波）器件
介电光学薄膜
透视镜
金刚石涂层
英文
GaAs Opto-electronics
Microwave integrated circuits
InP laser optics
Infra red detectors
Thin film magnetic heads
SAW（Surface Acoustic Wave）devices
Dielectic optical coatings
X-ray mirrors
DLC coatings | 
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